Tantal Sputtering Target

Tantal (Ta) är en eldfast metall som är avgörande för mikrochipsarkitekturer i den högväxande halvledarindustrin. Tantalmål med hög renhet används för att sputtera mikroskopiska tunna lager av tantal på kiselskivor, vilket möjliggör tillverkning av nästa generations halvledarlogikchips med avancerad nodarkitektur och högre prestanda.

Tantal klassificeras som en övergångsmetall i det periodiska systemet och anses vara en av de mest korrosionsbeständiga eldfasta metallerna. Tantal har en smältpunkt på 3 017 grader , en densitet på 16,6 g/cc och ett ångtryck på 10-4 Torr vid 2 590 grader . Den har en metallisk gråblå färg och är kemiskt överraskande lik niob. På grund av dess giftfria natur används den främst vid tillverkning av kirurgiska implantat. Den används även som kondensator inom elektronik och kan legeras med andra metaller för ökad styrka och hållbarhet. Tantal, dess legeringar och föreningar förångas under vakuum för att göra halvledare, optiska beläggningar, magnetiska lagringsmedier och slitage- och korrosionsbeständiga beläggningar.

Metallprodukter av högsta kvalitet

Tantal (Ta) Specifikationer

Företaget grundades 2008 och har under åren vuxit till att bli en ledande tillverkare och leverantör av metallprodukter som betjänar ett brett spektrum av industrier. Företaget investerar kontinuerligt i forskning och utveckling för att förbättra kvaliteten och hållbarheten på sina produkter. Företaget lägger stor vikt vid kundnöjdhet och är känt för att tillhandahålla högkvalitativa produkter och utmärkt kundservice. Idag har företaget en global närvaro och betjänar kunder i länder över hela världen.

Populära Taggar: tantal sputtering mål, Kina tantal sputtering mål tillverkare, leverantörer, fabrik, Tantallegering för böjda applikationer, Tantallegering för mekaniska tillämpningar, Tantallegering för applikationer med normal flöde, Tantallegering för extrema förhållanden, Tantallegering för fluktuerande tryckapplikationer, Tantallegering för nischmarknader